仪器简介：
是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子与样品中的原子碰撞而改变方向，从而产生立体角散射。散射角的大小与样品的密度、厚度相关，因此可以形成明暗不同的影像，影像将在放大、聚焦后在成像器件（如荧光屏、胶片、以及感光耦合组件）上显示出来。
应用：
透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多。由于电子易散射或被物体吸收，故穿透力低，样品的密度、厚度等都会影响到最后的成像质量，必须制备更薄的超薄切片，通常为50～100nm。所以用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。对于液体样品，通常是挂预处理过的铜网上进行观察。
仪器主要参数指标：
l 加速电压：30,60,120,200kV
l 球差系数：1.0mm
l 点分辨率：0.23nm
l 晶格分辨率：0.14nm
l 电子枪：LaB6
l 倾斜角：±35/30°
l 放大倍数：×2000~1500 000
可做测试项目：
1) 形貌观察：TEM观察范围内的样品
2) 高分辨像：如多相催化中小颗粒分析；晶体缺陷、晶界、相界；非晶薄膜上的纳米晶
3) 电子衍射：如确定晶体的点阵结构、测定点阵常数、晶体缺陷（位错、层错、空位等） 4) 衍射衬度成像（明场像、暗场像）
5) X射线能谱分析，元素定点分析
