一、X 射线反射率（XRR）简介
X射线反射率（X-ray reflectivity，XRR）是分析薄膜厚度、粗糙度、密度的表面分析方法。其基本原理是利用 X 射线在薄膜表面及界面的反射及折射光的相互干涉，与 XRD 的衍射原理无关，故不仅可分析结晶薄膜，也能分析无定形薄膜。
二、XRR 的主要特点
a) 适用材料广，可分析单晶、多晶、无定形、可见光下不透明材料等。
b) 薄膜类型适配性强，既能分析单层薄膜，也能分析多层薄膜。
c) 膜层厚度分析范围为纳米级（约 0.1 - 1000nm ）。
d) 测试准确且敏感，但对样品表面和界面粗糙度要求高（<3 - 5nm ）。
e) 测试过程快速且无损。
f) 数据需计算分析，多层膜分析建模有一定难度。
g) 无法分辨电子密度相当的膜层。
